Hot N2 System

[用途・目的]

• 半導体製造装置(CVD装置等)の真空排気配管に繋ぎ込み、 高温のN2を導入する事で生成物の堆積を抑制。
  ⇒配管メンテナンスサイクルの延長に繋がり、 作業負荷、環境負荷、稼働率への影響を軽減。

[特徴]

• 独自の“サイクロン熱交換方式”採用により、省スペース、 省エネルギーでN2の高温化（180～200℃）を実現。 効果が配管下流域まで持続します。
• 従来のジャケットヒーターによる配管加熱方式に比べ消費電力が　 小さく、配管交換時の煩雑なヒーター脱着作業も不要です。

[導入実績]

• 国内大手半導体メーカー各社に計100台導入済み。

[評価事例]

• CVD装置(P-SiN膜)にて2ヶ月稼動後の配管内状態を導入前後で 　　比較し、堆積量が低減されている事を確認（写真参照）。
• メンテナンスサイクルを３倍に延長する事が出来ました。

[その他]

• 「Hot N2 System」は、株式会社カイ（http://www.kai-ltd.com/）とのパートナー契約に基づく取り扱い製品です。